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WATCHES WORLD
NEW PIECES
UN GRAN SALTO PARA LA PRECISIÓN
Omega Spirate System
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La marca ha creado un dispositivo que permite ajustes ultrafinos de la marcha para lograr una precisión certificada de 0/+2 segundos al día, algo sencillamente excepcional.
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Un cronógrafo Speedmaster Professional de Omega llegó a la Luna el 20 de julio de 1969
con la tripulación del Apolo 11 y se convirtió en
la referencia de las proezas relojeras con tintes heroicos. En 2023, otro Speedmaster planta su bandera en el planeta de la precisión con un pequeño dispositivo que implica un gran avance para la industria, como el pequeño paso de Neil Armstrong fue un gran salto para la humanidad.
El dispositivo se llama Spirate System y se presenta en un nuevo Speedmaster Super Racing. Incluye una revolucionaria espiral de silicio que permite ajustes ultrafinos de la marcha. Gracias a ello, Omega puede lograr una precisión certificada de 0/+2 segundos al día, algo sencillamente excepcional. Basta recordar que la precisión para la certificación cronométrica COSC es de -4/+6 segundos al día y que los relojes de Omega con la certificación Master Chronometer garantizan una variación diaria de 0/+5 segundos al día.
La espiral Si14 totalmente nueva de este sistema, permite al relojero actuar sobre la rigidez de su punto de fijación mediante un mecanismo de afinación excéntrico –una leva de caracol– situado en el puente del volante. Esto hace posible una regulación en incrementos de hasta 0.1 segundos al día en una escala de cinco segundos. Si el relojero gira el mecanismo de afinación en sentido F (Fast), la marcha será más rápida; si lo gira en sentido S (Slow), será más lenta.
El enfoque del Spirate System se basa en la creación de una estructura articulada de alta precisión con cojinetes flexibles. Por lo que vemos, la espiral se fija a una hoja flexible con una larga terminación que se une al puente del volante
y, mediante la leva de caracol, permite añadirle
o quitarle tensión a la espiral para acelerarla o ralentizarla. Cada espiral Si14 se fabrica a partir de una oblea de silicio con el proceso de fabricación DRIE (Deep Reactive Ion Etching o grabado iónico